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英文字典中文字典相关资料:

微流控SU-8光刻胶的紫外曝光 - 知乎
SU-8光刻胶 UV曝光的目的是通过部分SU-8光刻胶的 PAC （PhotoActiv Component）激活活化来引发交联。这种活化将会改变SU-8的局部性质，这种性质在烘烤后，可使SU-8光刻胶可溶于或不溶于溶剂。
SU-8 光刻胶及光刻工艺
SU-8 的光刻机理简述如下: 光刻胶中的光引发剂吸收光子发生了光化学反应, 生成一种强酸, 其作用是在中烘过程中作为酸催化剂促进交联反应的发生。只有曝光区域的光刻胶中才含有强酸, 而未曝光的区域则没有这种强酸的存在。
SU-8 光刻胶曝光时间的确定_光刻曝光时间-CSDN博客
本文介绍了SU-8光刻工艺中的关键步骤：确定膜厚、曝光光强及显影时间。这些参数对于确保最终产品的质量和性能至关重要。摘要生成于 C知道，由 DeepSeek-R1 满血版支持，前往体验 >
SU-8胶光刻工艺解读. doc 10页 - 原创力文档
二试验平台光刻机：德国Karl Suss公司 MA6(见图) 可进行正面和反面对准曝光, 最小线宽：2μm，对准精度： 1μm 甩胶台：美国AIO MICROSERVICE公司(见图) 4英寸厚胶甩胶台。
原创如何成功进行微流控SU8光刻胶的紫外曝光？ - 面包板社区
SU-8的曝光时间是光刻胶被UV照亮的时间。曝光时间也与UV线的功率有关，并且它们一起确定了照射到光刻胶的能量。曝光时间太短或太长将会导致光刻胶曝光不足或曝光过度，从而导致分辨率下降。
SU-8光刻胶起源、曝光、特性 - 电子发烧友网
本文介绍了SU-8光刻胶的起源、曝光过程、材料特性和加工方法。 SU-8光刻胶具有良好的光学特性（透明），优异的生物相容性，因此被广泛的应用在 MEMS 领域，例如光波导、微透镜、光学阵列等光学器件，微流控芯片、微电机阵列、高通量分析生物医学器件，微型机械臂、微型传感器等微机械系统。可能有很多小伙伴都很好奇SU-8到底是什么，它凭什么可以做这么多事情，本文将带你详细了解。一、起源 SU-8是由IBM公司开发的并拥有该项专利 (美国专利号4882245)。原配方组成成分有EPON SU-8树脂 (来源于 ShellChemicals)、丁内酯 (GBL)溶剂和作为光敏剂的三芳基锍盐 (重量比5%-10%)。
SU8模具 PDMS芯片模具 - 顶旭微控
SU-8是一种高分辨率的负性光刻胶，拥有卓越的机械、介电、耐化学性和热性能，以及出色的生物相容性。在微流控领域，常用来做制备PDMS微流控芯片的模具。 SU-8制备的模具具备以下优势： 1、高分辨率和精度：SU-8是高分辨率的光刻胶，使用光刻工艺，可以制备复杂且精细的微通道几何形状，从而形成清晰的微流体结构。 2、强韧耐用：SU-8模具具备强韧性和耐久性，能够经受住反复使用、清洗和处理，不会明显退化，适合多次浇筑PDMS芯片。 3、SU-8模具，使用光刻工艺，可以在SU8光刻胶制备的PDMS芯片模具上制造线条宽度大于2微米，并且实现深宽比在1:1至2:1的结构。此外，借助多层光刻技术，还可以在SU-8模具上创建不同高度的微流道结构。详情请点击 SU8加工设备了解。一、备片
SU8光刻胶详解 - 苏州恒芯微电子有限公司
1、光刻：制备掩膜版、旋涂光刻胶，采用常规365nm的波长曝光。可通过添加抗反射涂层到衬底上减少不必要的反射，以实现更准确的特征尺寸控制，同样地，SU-8也可以通过结合紫外线光刻技术和立体光刻技术，实现SU-8三维结构的制造。 2、去除：可采用热NMP、硫酸过氧化氢或专门的去除剂（如NANOTM Remover PG）等去除。 3、释放：通过薄牺牲层（如铝、钛、铜）控制SU-8的释放。 4、键合：SU-8可用作粘合剂，将个别样品、芯片和圆片键合在一起，也可与环氧树脂、PMMA、BCB光刻胶等实现键合。 5、转移：将释放下来的 SU-8微结构进行转印。 6、刻蚀掩膜：具有出色的耐化学性，耐氢氟酸和等离子体刻蚀。
一种利用h线激光直写机进行i线SU8系列光刻胶曝光的方法与流程
本发明通过使用h线激光直写机对i线su8系列光刻胶进行多次曝光，最终成功显影。克服了h线激光直写机光源能量太小，不足以使i线su8系列光刻胶充分曝光的缺点，缩短了科研开发周期，降低了生产成本，安全可靠。
一文了解SU-8光刻胶 - 知乎
化学放大光刻胶曝光速递是DQN光刻胶的10倍，对深紫外光源具有良好的光学敏感性，同时具有高对比度，对高分辨率等优点。按照曝光波长分类；光刻胶可分为紫外光刻胶（300~450nm）、深紫外光刻胶（160~280nm）、极紫外光刻胶（EUV，13 5nm）、电子束光刻胶、离子束光刻胶、X射线光刻胶等。不同曝光波长的光刻胶，其适用的光刻极限分辨率不同。通常来说，在使用工艺方法一致的情况下，波长越短，加工分辨率越佳。

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